最新亚洲人成无码网站-精品国产sm捆绑最大网免费站-影音先锋AV成人资源站在线播放 -国产日韩在线欧美视频

 
安徽優(yōu)聯(lián)氣體有限公司
Anhui Yoline Gas Co., Ltd
PROCUCT CENTERS
產(chǎn)品展示
標(biāo)準(zhǔn)氣體石油化工標(biāo)準(zhǔn)氣體|環(huán)境監(jiān)測(cè)標(biāo)準(zhǔn)氣體|VOC測(cè)定標(biāo)準(zhǔn)氣體|儀器儀表校準(zhǔn)氣體|高活性低濃度組分標(biāo)準(zhǔn)氣|機(jī)動(dòng)車尾氣檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)氣|可燃?xì)怏w報(bào)警標(biāo)準(zhǔn)氣|電力標(biāo)準(zhǔn)氣體|醫(yī)療醫(yī)用標(biāo)準(zhǔn)氣體|滅菌氣體|環(huán)氧乙烷殺菌氣|檢驗(yàn)檢疫標(biāo)準(zhǔn)氣體|燃?xì)鈾z測(cè)標(biāo)準(zhǔn)氣體|電子標(biāo)準(zhǔn)氣體|變壓器油中溶解氣體標(biāo)準(zhǔn)氣|空分測(cè)控標(biāo)準(zhǔn)氣體|小包裝定值標(biāo)準(zhǔn)氣體|甲烷標(biāo)準(zhǔn)氣體(CH4)|一氧化碳標(biāo)準(zhǔn)氣體 (CO)|二氧化硫標(biāo)準(zhǔn)氣體(SO2)|苯系物標(biāo)準(zhǔn)氣|激光混合氣|電光源標(biāo)準(zhǔn)氣體
高純氣體高純氬氣|高純氮?dú)?/a>|高純氦氣|高純氫氣|高純空氣|高純二氧化碳|一氧化氮|六氟化硫|甲烷|丙烷|高純丙烯|正丁烷|高純異丁烷|四氟化碳|1,3-丁二烯|一氧化二氮|笑氣|高純氨|丁烯-1|異丁烯|環(huán)氧乙烷|丙烯
電子氣體三氟化氮|四氯化硅|三氟化硼氣體 BF3|高純氯化氫氣體|四氟化碳|高純氯氣|三氟甲烷|高純硅烷|氨氣(液氨)
同位素氣體甲烷C13|二氧化碳C13|13C同位素|稀有氣體同位素|氦3氣體|氘氣|氧18的同位素|N15同位素|D同位素|金屬同位素|NMR同位素|氖-20同位素氣|重氧水(氧-18同位素)|二氧化碳-18O同位素CO2|氧-17同位素17O2|氖-22同位素氣體|乙炔-D2同位素 氘代乙炔
稀有氣體氖氣|氙氣|氪氣
掃一掃 ?
?加微信
三氟化氮/NF3
    發(fā)布時(shí)間: 2020-04-25 23:36    
三氟化氮/NF3

名稱/化學(xué)式:三氟化氮/NF3
包裝規(guī)格:44L、17L
純度(%)及雜質(zhì)(ppm)99.99%

產(chǎn)品詳情:

氣體標(biāo)識(shí)

  名稱:nitrogen trifluoride 分子式:NF3

  氣體物化特性

 

分子量

熔點(diǎn)

沸點(diǎn)

臨界溫度

臨界壓力

液體密度

氣體密度

CAS號(hào)

71.01

-206.8℃(1atm)

-129℃(1atm)

-39.3℃

44.02atm(4.46MPa)

1554kg/m3(1atm沸點(diǎn)時(shí))

2.95kg/m3(1atm 21℃

7783-54-2

  

  包裝 ( Cylinder47L)、Bundle(16×47L)、Bundle(25×47L)、 Y-Cylinder(470L)、 ISO)

 

鋼瓶容積

鋼瓶型號(hào)

閥門

鋼瓶壓力

氣體質(zhì)量

危規(guī)號(hào)

UN編號(hào)

包裝分類

包裝標(biāo)志

47L、43.3L、40L8L

DOT-3AA、GB5099

CGA330CGA640

9.0-13.0MPa

22kg、20kg、3.4kg

23016

2451

6

  

  儲(chǔ)存及運(yùn)輸

  三氟化氮?dú)馄繎?yīng)儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)倉庫內(nèi)。三氟化氮?dú)馄繎?yīng)遠(yuǎn)離火種、熱源、防止陽光直射,與還原劑、易燃或可燃物等分開存放。

  三氟化氮?dú)馄吭诎徇\(yùn)時(shí)要輕裝、輕卸,防止鋼瓶及附件破損。

  三氟化氮?dú)馄康倪\(yùn)輸按危險(xiǎn)品運(yùn)輸。運(yùn)輸時(shí)用氣瓶固定架將三氟化氮?dú)馄抗潭ê?,用汽車公路運(yùn)輸或用輪船集裝箱運(yùn)輸。

  泄漏應(yīng)急處理

  如遇有三氟化氮?dú)怏w泄露,工作人員要馬上撤離泄漏污染區(qū),并盡可能采取措施阻止三氟化氮?dú)怏w的進(jìn)一步泄露。如有工作人員中毒,應(yīng)立即送往醫(yī)院救治。

  泄露現(xiàn)場(chǎng)要盡快處理,處理泄露現(xiàn)場(chǎng)的工作人員必須配戴必要的防毒面具,最好是自給正壓式呼吸器。泄露現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)檢測(cè)無危害氣體后方可進(jìn)入工作人員,泄露容器必須經(jīng)仔細(xì)檢查、維修或妥善處理好后方可繼續(xù)使用。

  三氟化氮?dú)怏w產(chǎn)品質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)(QJ58-2007

 

 

雜質(zhì)

NF3≥99.995% Vol.%

NF3≥99.99% Vol.%

NF3≥99.98% Vol.%

NF3≥99.9% Vol.%

CF4

≤20 Vol.ppm

≤40 Vol.ppm

≤100 Vol.ppm

≤500 Vol.ppm

N2

≤5 Vol.ppm

≤5 Vol.ppm

≤10 Vol.ppm

≤50 Vol.ppm

O2+Ar

≤3 Vol.ppm

≤5 Vol.ppm

≤10 Vol.ppm

≤50 Vol.ppm

CO2

≤1 Vol.ppm

≤5 Vol.ppm

≤10 Vol.ppm

≤10 Vol.ppm

H2O

≤1 Vol.ppm

≤1 Vol.ppm

≤1 Vol.ppm

≤1  Vol.ppm

酸份(以HF計(jì))

≤1 Vol.ppm

≤1 Vol.ppm

≤1 Vol.ppm

≤1  Vol.ppm

SF6

≤1 Vol.ppm

≤2 Vol.ppm

≤2 Vol.ppm

≤25 Vol.ppm

N2O

≤1 Vol.ppm

≤5 Vol.ppm

≤10 Vol.ppm

≤10 Vol.ppm

CO

≤0.5 Vol.ppm

≤5 Vol.ppm

≤10 Vol.ppm

≤10 Vol.ppm


三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體,是一種強(qiáng)氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體,在離子蝕刻時(shí)裂解為活性氟離子,這些氟離子對(duì)硅和鎢化合物,高純?nèi)哂袃?yōu)異的蝕刻速率和選擇性(對(duì)氧化硅和硅),它在蝕刻時(shí),在蝕刻物表面不留任何殘留物,是非常良好的清洗劑,同時(shí)在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運(yùn)用。

主要用途:用作氟化氫-氟化氣高能化學(xué)激光器的氟源,h2-O2 F2之間反應(yīng)能的有效部分(25%)可以以激光輻射釋放出, HF-OF激光器是化學(xué)激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體,對(duì)硅和氮化硅蝕刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性,而且對(duì)表面無污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中,三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性,在被蝕刻物表面不留任何殘留物,同時(shí)也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術(shù)的發(fā)展和電子工業(yè)大規(guī)模的發(fā)展技術(shù),它的需求量將日益增加。